泰興平面拋光機(jī)升級(jí)環(huán)保型
昆山精創(chuàng)厚德平面拋光機(jī)設(shè)備廠實(shí)力,工藝。
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平面拋光機(jī)用途
平面拋光機(jī)的用途非常廣泛,可以適用于不同行業(yè)和不同材質(zhì)的平面拋光,主要是將材質(zhì)的工件進(jìn)行表面精拋,使其達(dá)到的平面度,平行度和光潔度,以及更加美觀。適用于金屬平面(及非金屬材料)的研磨拋光及電鍍前的表面處理。可裝砂輪、麻輪、布輪、風(fēng)輪、尼龍輪、纖維輪、千葉輪及砂帶輪等拋輪;可出砂光或鏡光,也可以拉絲出紋。
適用行業(yè)舉例 航空航天業(yè),LED行業(yè),光學(xué)玻璃行業(yè),精密五金行業(yè),通訊器材行業(yè),電子行業(yè),手機(jī)行業(yè),陶瓷行業(yè),塑膠模具行業(yè)等。
適用材質(zhì)舉例 不銹鋼,鎢鋼,鋁材,合金等金屬材質(zhì)的產(chǎn)品;光學(xué)玻璃,硅片,導(dǎo)光板,亞克力,藍(lán)寶石襯底,藍(lán)寶石外延片,塑膠等非金屬材質(zhì)的產(chǎn)品。
平面拋光機(jī)的工作原理
平面拋光機(jī)把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能??;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到小。拋光機(jī)拋光時(shí),試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時(shí),由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫,潤(rùn)滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會(huì)拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,好不要超過(guò)600r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無(wú)光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋。
精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。拋光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),已逐步引起有關(guān)專家的重視。近年來(lái),國(guó)內(nèi)外在拋光機(jī)的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備,正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)。
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